Управление по обращению с радиоактивными отходами (EM) Министерства энергетики завершило успешную 11-летнюю демонстрацию двух промежуточных установок по переработке солевых отходов. Работники готовятся к запуску новой установки в Саванна-Ривере для их замены.
Новаторская работа по процессу удаления актиноидов (Actinide Removal Process – ARP) и модульной установке для экстракции щелочными растворителями (Modular Caustic Side Solvent Extraction Unit – MCU) демонстрирует передовую обработку радиоактивных солевых отходов на комплексе управления EM путем совершенствования технологии, которая будет использоваться на крупномасштабной установке по обработке солевых отходов (Salt Waste Processing Facility – SWPF).
Процесс ARP и установка MCU помогли управлению EM избежать перерывов в операциях с жидкими отходами путем обеспечения возможности обработки солевых отходов вследствие недостатка места в резервуаре, включая закрытие резервуаров с высокоактивными отходами (ВАО) и остекловывание ВАО на объекте по обработке оборонных отходов (Defense Waste Processing Facility – DWPF), в то время как была построена установка SWPF. Более десяти лет этот демонстрационный проект оказался важным для работы установки SWPF и позволил бесперебойно выполнять миссию по обработке жидких отходов.
Использование процесса ARP и установки MCU позволило управлению EM переработать 28 тыс. м3 радиоактивных солевых отходов, в результате чего образовалось 1827 канистр с остеклованными отходами и 56,8 тыс. м3 цементного раствора, безопасных для постоянного удаления. Процесс ARP и установка MCU способствовали закрытию шести резервуаров с ВАО. Успех процесса ARP и установки MCU позволил подтвердить технологию, которая будет использоваться на установке SWPF, и продолжать опорожнять резервуары для отходов в Саванна-Ривере, а также обрабатывать и безопасно удалять радиоактивные отходы в поддержку планов Министерства энергетики по очистке и закрытию резервуаров.
Линии перекачки отходов, которые питали установку MCU, перенаправляются на установку SWPF площадью около 13 тыс. м2, которая имеет значительно бόльшую пропускную способность, чем процесс ARP и установка MCU. Установка SWPF также будет производить гораздо больший поток дезактивированных солевых отходов, чем эти объекты.
Процесс ARP и установка MCU были разработаны, чтобы уменьшить загрязнение отходов в 12 раз. Растворитель следующего поколения, специально разработанный для удаления большого количества цезия, был разработан в
Ок-риджской национальной лаборатории и внедрен в 2013 г. Саванна-Ривером и Саванна-риверской национальной лабораторией. Это улучшение уменьшило загрязнение отходов примерно в 60 тыс. раз на установке MCU.
Источник: EM Update Vol. 11, Issue 30, 6.8.2019